- 聯(lián)系電話
- +86-138-6113-0863
一、設備概述
沸騰干燥機，又稱流化床干燥機。自應用30多年來，有了不斷改進和提高。在制藥、化工、食品、糧食加工等行業(yè)廣泛應用。如：原料藥、顆粒成藥、沖劑、飼料、塑料樹脂等粉狀、顆粒狀物料的除濕、干燥。物料粒徑可以在0.1~6mm范圍內，最佳為0.5~3mm。
二、工作原理
潔凈的熱風經閥板分配進入床體內，從加料器進入的濕物料被熱風形成流化狀態(tài)，如煮沸的開水在床體內跳躍，故稱為沸騰干燥機。由于熱風與物料廣泛接觸，因此在較短時間內就可以干燥。物料從流化床的一頭進入，經幾分鐘至幾十分鐘時間的“沸騰”，從流化床床體的另一頭自動流出。
三、技術參數(shù)
|
型號 |
XF0.25 ×1 |
XF0.25 ×2 |
XF0.25 ×3 |
XF0.25 ×6 |
XF0.3 ×2 |
XF0.3 ×4 |
XF0.3 ×6 |
XF0.3 ×8 |
XF0.3×10 |
XF0.4 ×4 |
XF0.4 ×6 |
|
床層面積 (m2) |
0.25 |
0.5 |
1.0 |
1.5 |
0.6 |
1.2 |
1.8 |
2.4 |
3.0 |
1.6 |
2.4 |
|
蒸發(fā)能力 (kg/h) |
10~15 |
20~25 |
30~45 |
52~75 |
20~30 |
42~60 |
63~90 |
84~20 |
105~150 |
56~80 |
84~120 |
|
風機功率 (kW) |
5.5 |
7.5 |
15 |
22 |
7.5 |
18.5 |
30 |
37 |
48 |
30 |
37 |
|
進風溫度 (℃) |
120~140 |
||||||||||
|
出風溫度 (℃) |
40~60 |
||||||||||
|
主機外形尺寸 (mm) |
1×0.6 ×3.35 |
2×0.6 ×3.35 |
4×0.6 ×3.35 |
6×0.6 ×3.35 |
2×0.7 ×3.4 |
4×0.7 ×3.4 |
6×0.7 ×3.4 |
8×0.7 ×3.4 |
10×0.7 ×3.4 |
4×1 ×3.58 |
6×1 ×3.58 |
|
占地面積 (m2) |
18 |
25 |
35 |
40 |
25 |
38 |
45 |
56 |
70 |
18 |
56 |
|
型號 |
XF0.4 ×8 |
XF0.4 ×10 |
XF0.4 ×12 |
XF0.5 ×4 |
XF0.5 ×6 |
XF0.5 ×8 |
XF0.5 ×10 |
XF0.5 ×12 |
XF0.5 ×14 |
XF0.5 ×16 |
XF0.5 ×18 |
|
床層面積 (m2) |
3.2 |
4.0 |
4.8 |
2.0 |
3.0 |
4.0 |
5.0 |
6.0 |
7.0 |
8.0 |
9.0 |
|
蒸發(fā)能力 (kg/h) |
112~160 |
140~200 |
168~240 |
70~100 |
105~150 |
140~200 |
175~250 |
210~300 |
245~350 |
280~400 |
315~240 |
|
風機功率 (kW) |
48 |
70 |
70 |
30 |
48 |
70 |
105 |
140 |
147 |
169 |
197 |
|
進風溫度 (℃) |
120~140 |
||||||||||
|
出風溫度 (℃) |
40~60 |
||||||||||
|
主機外形尺寸 (mm) |
8×1 ×3.58 |
10×1 ×3.58 |
12×1 ×3.58 |
4×1.2 ×4.1 |
6×1.2 ×4.1 |
8×1.2 ×4.1 |
10×1.2 ×4.1 |
12×1.2 ×4.1 |
14×1.2 ×4.1 |
16×1.2 ×4.1 |
18×1.2 ×4.1 |
|
占地面積 (m2) |
74 |
82 |
96 |
50 |
70 |
82 |
100 |
140 |
180 |
225 |
268 |
經過45天的緊張制作，我公司出口丹麥的兩臺WLDH-1.5型臥式螺帶混合機制作完成并發(fā)貨。該設備全容積1500L，由SUS304優(yōu)質不銹鋼制作…
近日，我公司出口美國的兩臺SZH-2500型雙錐混合機完成制作及發(fā)貨。該設備由美國某大型藥企訂購，設備運抵現(xiàn)場后將用于片劑車間的壓…
我公司FZH-2000型方錐混合機及料斗完成制作并發(fā)貨
近日，我公司LPG-150型中藥浸膏專用離心噴霧干燥機完成制作，并交付給客戶。 中藥浸膏是由植物根莖葉提取而成，特別是醇提工…
我公司出口土耳其振動流化床干燥機發(fā)貨
薄膜包衣過程主要是：包衣溶液或混懸液的制備；霧滴的產生；霧滴從噴槍向基片床移動；霧滴在片芯表面或顆粒表面上的撞擊、潤濕、鋪…
